이온주입공정의 산업적 응용 및 개발 내역
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작성일 22-09-30 14:31
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이온주입공정의 산업적 응용 및 개발 내역
이온주입공정의 산업적 응용 및 개발 내역에 대한 자료(data)입니다. 이온을 주입하여 전기전도도를 향상시켜 전도성을 띠므로 자기디스크, 반도체재료, 온도/습도센서등에 이용된다
반도체에 대해 이온주입법(Ion Implantaion)은 확산은 적당한 도펀트 농도와 온도가 있으면 일어나지만 이온주입법은 이온주입기계가 벽에 총을 쏘는 것처럼 이온화된 도펀트를 강제적으로 이온주입시키는 기술이다. 이온주입공정 , 이온주입공정의 산업적 응용 및 개발 현황공학기술레포트 ,
1.이온주입이란?
2. 이온주입공定義(정이) 원리 및 속성
3. 이온주입장치의 說明(설명)
4. 이온주입공定義(정이) 산업적 응용
4-1 기계적속성 향상
4-2 내식성 및 내산화성 향상
4-3 세라믹 및 합성수지의 속성 향상
4-4 표면개질을 위한 이온빔 응용
5.국내외 이온주입공정 개발 동향
1.이온주입이란?
고분자 재료는 성형과 가공이 쉽고 생산비용이 저렴한 長點이 있으나 금속에 비해 기계적 성질이 약하고 절연체의 성질을 가지고 있어 임의의 원소를 이온화 하여 빔(Beam)을 형성한 후 고에너지로 가속하여 이온을 주입함으로써 소재표면의 화학적조성, 결정구조, 조직등을 변형시켜 기계적인 속성 과 표면전기전도도가 향상되고 광학밀도가 증가하여 광학적속성 이 변하는 표면개질(Surface modification)기술이다.
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이온주입공정
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이온주입공정의 산업적 응용 및 개발 현황에 대한 자료입니다.
2. 이온주입공定義(정이) 원리 및 속성
이온주입공정은 고진공(104torr)중에서 중에서 임의의 원소를 이온화하여 높은 에너지(40~200KeV)로 가속한 후 물리적으로 소재의 표면에 침투시키는 공정으로 침투하는 고에너지의 이온은 소재원자와 상호탄성 및 비탄성 충돌반응에 의해 에너지를 잃는 동시에 소재표면의 조직 및 조성의 change(변화)를 야기하게 된다
Fig.1 Schematic of th…(skip)
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