국내 팹에 국산비중이 50% 넘게 채택된 장비 수두룩
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작성일 23-02-10 03:20본문
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기술적으로 선진장비 수준에 근접해 있어 戰略적으로 집중 채택해야 하는 분야(국산 대체 본격화)는 에처·CVD·메인테스터·CMP(화학기계적연마) 등으로 서서히 국산 채택비중이 늘고 있는 것으로 조사됐다.
심규호기자@전자신문, khsim@
‘노광분야-여전히 난제, 에처·CVD·메인테스터분야-국산대체 시동, 원자층증착장비(ALD)·애셔·번인테스터분야-시장 주도’
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다.
장비업계 한 CEO는 “삼성전자·하이닉스반도체 등은 우선 시장규모가 커 국산화 대체效果(효과)가 높은 장비를 중심으로, 협력업체와 공동개발협약(JDP)를 맺고 국산화를 진행해 왔다”며 “ALD·번인테스터 등 이미 일부 장비는 국산이 세계시장을 주도하는 성과를 나타내고 있다”고 설명했다. 표 참조
국내 팹에 국산비중이 50% 넘게 채택된 장비 수두룩
특히 삼성전자와 하이닉스반도체는 올해만도 각각 19건과 13건의 국산장비 공동개발프로젝트를 협력업체들과 진행하고 있는 것으로 파악돼, 장비 국산화 및 국내 팹 채택이 한층 가속화될 것으로 기대된다된다.
국내 팹에 국산비중이 50% 넘게 채택된 장비 수두룩
설명
국산 반도체장비의 현주소를 살펴보기 위해 본지가 관련업계의 협조를 얻어 국산화 수준 및 실제 라인 채택 present condition을 分析(분석)한 결과 이같이 나타났다.
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그러나 스캐너와 이온주입 포토레지스트(IIP) 등을 비롯한 노광분야는 사실상 국산이 전무한 상태인 것으로 나타났다.
국내 팹에 국산비중이 50% 넘게 채택된 장비 수두룩
국내 팹에 국산비중이 50% 넘게 채택된 장비 수두룩
이 번 조사에서 ALD·애셔·번인테스터·핸들러·세정장비 등은 이미 국산장비가 국내 팹에 50% 이상 채택돼 국산대체에 성공을 거두고 있는 것으로 드러났다.